XRFS Determination of Iron, Vanadium and Silicon in Ferrovanadium Nitride
摘 要
应用X射线荧光光谱法测定氮化钒铁中铁、钒和硅的含量。样品需研磨过孔径为0.074 mm的样筛(即200号筛),用淀粉或甲基纤维素为粘合剂,将样品细粉压制成样片,样片厚度在3~5 mm间。试验表明:上法制得的样片所得荧光强度稳定,测定结果的精密度符合要求。铁、钒、硅3种元素测定值的相对标准偏差(n=10)依次为0.27%,0.23%,1.51%。经验证,本方法的测定结果与化学法测定结果相符。用基体匹配法制作工作曲线,进行定量分析。
Abstract
XRFS was applied to the determination of iron, vanadium and silicon in ferrovanadium nitride. It was shown that the sample should be pulverized to pass through sample sieve with bore size of 0.074 mm. Sample for XRFS analysis was prepared by pressing the powdered sample into sample pieces having its thickness between 3 to 5 mm using starch or methyl cellulose as binder. As shown by the testing results, stable fluorescence intensities were obtained with the sample piece thus prepared. Working curves were prepared by the matrix matching method in XRFS determinations. Precision was tested by analyzing a sample for 10 determinations, giving values of RSD′s of 0.27% (for Fe), 0.23% (for V) and 1.51% (for Si). It was proved that the results of the 3 elements found by the proposed method checked quite well with the results obtained by methods of chemical analysis.
中图分类号 O657.34
所属栏目 工作简报
基金项目 国家科技支撑计划基金资助项目(2012BAE06B04);河北省科技支撑项目(12214903)
收稿日期 2013/5/11
修改稿日期
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备注高树峰(1968-)男,河北承德人,高级工程师,主要研究方向为钢铁、合金化学分析。
引用该论文: GAO Shufeng,ZHANG Haiyan,ZHANG Yuping,LI Yanhui,SONG Xiaojun. XRFS Determination of Iron, Vanadium and Silicon in Ferrovanadium Nitride[J]. Physical Testing and Chemical Analysis part B:Chemical Analysis, 2014, 50(6): 681~684
高树峰,张海岩,张玉平,李彦辉,宋晓军. X射线荧光光谱法测定氮化钒铁中铁、钒、硅的含量[J]. 理化检验-化学分册, 2014, 50(6): 681~684
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参考文献
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