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镁合金表面磁控溅射CNx/SiC双层膜的性能
          
Properties of Magnetron Sputtered CNx/SiC Bilayer Films on Magnesium Alloy Surface

摘    要
采用室温磁控溅射技术在AZ91D镁合金表面制备了CNx/SiC双层薄膜(SiC为中间层), 研究了界面结合情况、薄膜的力学和摩擦磨损性能。结果表明: CNx/SiC双层薄膜表面颗粒结合紧密, 中间层SiC与基体和CNx层界面的结合很好, 均发生了呈梯度的元素扩散, 膜基附着力在12 N以上; CNx薄膜具有低的纳米硬度(3.85 GPa)、低的弹性模量(30.46 GPa), 但却具有高的硬度与弹性模量比值(0.126)以及好的摩擦磨损性能; 在以氮化硅(Si3N4)球为对偶件的室温干摩擦条件下, 其摩擦因数约为0.19, 磨损率为4.89×10-6 mm3·m-1·N-1。
标    签 镁合金   薄膜   纳米压痕   摩擦磨损   磁控溅射   Mg alloy   film   nano-indentation   friction and wear   magnetron sputtering  
 
Abstract
CNx/SiC bilayer films (SiC as interlayer) were prepared on AZ91D Mg alloy surface by using magnetron sputtering technique at room temperature. The interfacial bonding, friction and wear properties as well as mechanical properties of the film were investigated. The results show that the surface particles of CNx/SiC bilayer films were closely combination, the SiC interlayer had good combination with the substrate and the CNx layer, which had gradient elements diffusion and the adhension force was larger than 12 N. The CNx films had low nano-hardness of 3.85 GPa, low elastic modulus of 30.46 GPa, high ratio of hardness and elastic modulus of 0.126 and good friction and wear properties. The friction coefficient of the film was about 0.19 when using Si3N4 balls as friction pairs under dry friction condition at room temperature, and the wear rate was 4.89×10-6 mm3·m-1·N-1.

中图分类号 TG174.4

 
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所属栏目

基金项目 江苏省自然科学基金重点资助项目(BK2007707); 教育部留学回国人员启动基金资助项目(教外司2006-331)

收稿日期 2010/1/29

修改稿日期 2010/10/9

网络出版日期

作者单位点击查看

备注许晓静(1967-), 男, 江苏东台人, 教授。

引用该论文: XU Xiao-jing,HAO Xin-ni,XIA Deng-fu,CHEN Dan,TIAN Kun,XIN Xi-ling. Properties of Magnetron Sputtered CNx/SiC Bilayer Films on Magnesium Alloy Surface[J]. Materials for mechancial engineering, 2011, 35(3): 83~86
许晓静,郝欣妮,夏登福,陈丹,田琨,辛喜玲. 镁合金表面磁控溅射CNx/SiC双层膜的性能[J]. 机械工程材料, 2011, 35(3): 83~86


被引情况:


【1】陈向阳,张瑾,胡海霞,周哲波, "反应磁控溅射方法制备CNx薄膜的高温抗氧化性能",机械工程材料 38, 71-75(2014)



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参考文献
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