四种稳定剂对化学镀镍液及镀层耐蚀性的影响
INFLUENCE OF FOUR STABILIZERS ON ELECTROLESS Ni-P SOLUTION AND CORROSION RESISTANCE OF Ni-P COATING
摘 要
采用阳极极化和电化学阻抗谱法研究了硫脲、镉离子、硫代硫酸钠和碘化钾四种稳定剂对化学镀镍液及镀层耐蚀性的影响.结果表明用硫脲作稳定剂时镀速最快,达21 μm/h;用碘化钾作稳定剂所获得的镀层的耐蚀性最好;用Cd2＋作稳定剂时镀液的稳定性最好.
阳极极化
电化学阻抗谱
硫脲
镉离子
硫代硫酸钠
碘化钾
Electroless nickel
Anodic polarization
EIS
H2NCSNH2
Cd2+
Na2SO3
KI
Abstract
The influence of four stabilizers on electroless Ni-P solution and corrosion resistance of electroless Ni-P coating was studied by anodic polarization and EIS.H2NCSNH2 resulted in the best deposition rate of 21 μm/h;KI led to the best corrosion resistance;Cd2+ among the four stabilizers had the best stability in plating solution.
中图分类号 TQ153.1+2
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收稿日期 2006/3/27
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引用该论文: LEI Zhi-gang,ZHENG Chuan-ming,HAN Rong-sheng,ZHU Guang-dong,HE Guo-xu. INFLUENCE OF FOUR STABILIZERS ON ELECTROLESS Ni-P SOLUTION AND CORROSION RESISTANCE OF Ni-P COATING[J]. Corrosion & Protection, 2007, 28(3): 135～137
被引情况:
【1】梁平, "KIO3对铝合金化学沉积Ni-P镀层的影响",腐蚀与防护 31, 300-302(2010)
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参考文献
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【3】仵亚婷,汤义武,沈 彬,等.化学镀镍溶液稳定剂及其作用机理[J].机械工程材料,2004,28(11):1.
【4】曹楚南,王佳,林海潮.氯离子对钝态金属电极阻抗频谱的影响[J].中国腐蚀与防护学报,1989,9(12):261.
【5】曹楚南.腐蚀电化学原理[M].北京: 化学工业出版社,2004.
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