CoCl2在Ni-P基化学沉积中的作用
THE EFFECT OF CoCl2 ON Ni-P POLYBASIC ELECTROLESS DEPOSIT
摘 要
在Ni-P基化学沉积液中加入氯化钴，得到Ni-Co-P合金镀层，与Ni-P镀层相比较其性能得以改善.研究了氯化钴对化学沉积所起的作用及其影响机制，结果表明：加入适量的CoCl2可有效提高镀层的硬度和耐热溶液腐蚀性能，并能抑制镀层的晶化，提高其晶化温度.
Ni-Co-P镀层
化学沉积
晶化
CoCl2
Ni-Co-P coating
electroless deposit
crystallization
Abstract
The Ni-Co-P electroless deposit coating was obtained by adding CoCl2 to the Ni-P polybasic electroless deposit solution.Compared with that of the Ni-P coating,the property of the Ni-Co-P coating was improved.The effect of CoCl2 on deposit as well as the effect mechanism were studied.The micro-hardness and corrosion resistance of the coating in a hot solution were improved effectively by adding certain CoCl2.The CoCl2 could also prevent the crystallization of the coating and increase the crystallization temperature.
中图分类号 TQ153
所属栏目 应用技术
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收稿日期 2006/11/28
修改稿日期 2006/12/12
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引用该论文: 张敬尧. THE EFFECT OF CoCl2 ON Ni-P POLYBASIC ELECTROLESS DEPOSIT[J]. Corrosion & Protection, 2007, 28(10): 529～531
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参考文献
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