射频磁控溅射法制备氮化硼薄膜
Deposition of BN Films by Radio Frequency Magnetron Sputtering
摘 要
采用射频磁控溅射方法在T10钢表面获得了氮化硼薄膜.借助光学显微镜、摩擦磨损试验仪和划痕试验仪等研究了溅射时间、溅射功率以及中间层对薄膜性能的影响.结果表明:氮化硼薄膜的摩擦因数约为钢基材料的一半,中间层镍磷合金的加入使薄膜结合力显著提高.
氮化硼薄膜
摩擦因数
结合力
radio frequency magnetron sputtering
BN film
friction factor
cohesion
Abstract
The film of boron nitride(BN) was deposited on the surface of T10 steel by the method of radio frequency magnetron sputtering at room-temperature.With optical microscope,friction and wear spectrometer and scratch spectrometer,the influence of the parameters of sputtering time,sputtering power and interface layer on the film was studied.The results showed that the friction factor of BN film was about half of that of the steel based materials,and the cohesion between film and substrate could obviously be increased by the Ni-P interface layer.
中图分类号 TB43
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基金项目 江苏高校省级重点实验室开放课题资助项目(kjsmcx04005)
收稿日期 2005/11/14
修改稿日期 2006/3/10
网络出版日期
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备注李宁(1978-),男,山东德州人,硕士研究生.
引用该论文: LI Ning,SHAO Hong-hong. Deposition of BN Films by Radio Frequency Magnetron Sputtering[J]. Materials for mechancial engineering, 2006, 30(11): 15～17
李宁,邵红红. 射频磁控溅射法制备氮化硼薄膜[J]. 机械工程材料, 2006, 30(11): 15～17
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参考文献
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