X射线荧光光谱法测定耐指纹板有机涂层中二氧化硅
XRFS Determinate of Silicon Dioxide in Organic Coating of Fingerprint Proof Board
摘 要
应用X射线荧光光谱法测定了耐指纹板有机涂层中二氧化硅的含量.在所用的校准样品和测试样品的基板成分相同和所用的有机涂层属同类的前提下,可采用经验系数法进行校正.应用此方法对已知二氧化硅含量的耐指纹板样品(二氧化硅量为76.65 mg·m-2)进行12次测定,测得二氧化硅含量的平均值为76.66 mg·m-2,其相对标准偏差为0.087%.
耐指纹板
二氧化硅
有机涂层
XRFS
Fingerprint proof board
SiO2
Organic coating
Abstract
XRFS was applied to the determination of SiO2 in organic coating of fingerprint proof board.The empirical coefficient method was used for correction in the XRFS analysis under the prerequisite of same composition of the base board material and same category of the organic coating material in both the standard sample and the testing sample.The proposed method was applied to the analysis of a known sample of fingerprint proof board (with known SiO2 content of 76.65 mg·m-2),giving results of average SiO2 content 76.66 mg·m-2 and value of RSD (n=12) 0.087%.
中图分类号 O657.31
所属栏目 工作简报
基金项目
收稿日期 2009/7/21
修改稿日期
网络出版日期
作者单位点击查看
备注曲月华(1959-),女,辽宁人,高级工程师,主要从事X射线荧光光谱分析及分析化学工作.
引用该论文: QU Yue-hua,WANG Yi-ling,DENG Jun-hua,KANG De-hua,ZHANG Peng,WANG Cui-yan. XRFS Determinate of Silicon Dioxide in Organic Coating of Fingerprint Proof Board[J]. Physical Testing and Chemical Analysis part B:Chemical Analysis, 2010, 46(10): 1205～1206
曲月华,王一凌,邓军华,亢德华,张鹏,王翠艳. X射线荧光光谱法测定耐指纹板有机涂层中二氧化硅[J]. 理化检验－化学分册, 2010, 46(10): 1205～1206
被引情况:
【1】包楚才,刘琼,何勇,陈纪文,彭莺,陈满英, "X射线荧光光谱法快速测定内外墙涂料中二氧化钛",理化检验－化学分册 50, 895-896(2014)
【2】黄世杰,张建波,应海松,蔡曹盛,李雪莲, "X射线荧光光谱法测定废塑料表面涂层中8种元素的含量",理化检验－化学分册 52, 33-36(2016)
共有人对该论文发表了看法，其中：
人认为该论文很差
人认为该论文较差
人认为该论文一般
人认为该论文较好
人认为该论文很好
参考文献
【1】GB/T 223.60-1997钢铁及合金化学分析方法 高氯酸脱水重量法测定硅含量[S]．
【2】孙玉华.氟硅酸钾容量法测硅的探讨[J].辽宁建材,2005,2:44-46．
【3】陈桂英.氟硅酸钾容量法测定二氧化硅含量在冶金分析中的应用[J].四川冶金,2007,29(6):27-29．
【4】GB/T 223.5-1997钢铁及合金化学分析方法 还原型硅钼酸盐光度法测定酸溶硅含量[S]．
【5】ISO 17055-2002Steel-determination of silicon content-inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method[S]．
【6】张毅,陈颖,张志颖.辉光放电光谱法分析镀锌钢板产品[J].冶金分析,2004,24(增刊):242-247．
【7】张毅,陈颖.辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜的研究[J].冶金分析,2004,24(增刊):253-258．
【8】王青松,应晓浒.铁基合金锡锌镀层厚度的X射线荧光光谱快速测定[J].光谱实验室,1996,18(6):2978-2979．
【9】卫巍,程国莹.X射线荧光测量技术在冷轧镀锌处理线的应用[J].宝钢技术,2007(1):54-57．
【10】韩小元,卓尚军,王佩玲.X射线荧光光谱法表征薄膜进展[J].光谱学与光谱分析,2006:11(26):159-161．
【11】LIEBHAFSKY H A,PFEIFFER H G,WINSLOW E H,et al.X-ray absorption and emission in analytical chemistry[M].New York: John Wiley and Sons Inc,1962．
【2】孙玉华.氟硅酸钾容量法测硅的探讨[J].辽宁建材,2005,2:44-46．
【3】陈桂英.氟硅酸钾容量法测定二氧化硅含量在冶金分析中的应用[J].四川冶金,2007,29(6):27-29．
【4】GB/T 223.5-1997钢铁及合金化学分析方法 还原型硅钼酸盐光度法测定酸溶硅含量[S]．
【5】ISO 17055-2002Steel-determination of silicon content-inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method[S]．
【6】张毅,陈颖,张志颖.辉光放电光谱法分析镀锌钢板产品[J].冶金分析,2004,24(增刊):242-247．
【7】张毅,陈颖.辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜的研究[J].冶金分析,2004,24(增刊):253-258．
【8】王青松,应晓浒.铁基合金锡锌镀层厚度的X射线荧光光谱快速测定[J].光谱实验室,1996,18(6):2978-2979．
【9】卫巍,程国莹.X射线荧光测量技术在冷轧镀锌处理线的应用[J].宝钢技术,2007(1):54-57．
【10】韩小元,卓尚军,王佩玲.X射线荧光光谱法表征薄膜进展[J].光谱学与光谱分析,2006:11(26):159-161．
【11】LIEBHAFSKY H A,PFEIFFER H G,WINSLOW E H,et al.X-ray absorption and emission in analytical chemistry[M].New York: John Wiley and Sons Inc,1962．
相关信息
