化学机械抛光机原理
人民网北京8月4日电（记者余荣华）集成电路领域的高端装备国产化进程又进一步。记者今天从清华控股有限公司获悉，由清华大学科技成果成功转化的国内首台12英寸化学机械抛光机近日交付使用。化学机械抛光是通过使用化学腐蚀和机械作用对加工过程中的晶圆进行平坦化处理，以便获得纳米级别的平整表面，是集成电路制造工艺中的五大关键技术之一。在国家科技重大专项“极大规模集成电路平坦化工艺与材料”的支持下，清华大学研制出了国内首台12英寸“干进干出”铜制程抛光机，主要技术指标达到或者超过国外最先进产品的水平。
清华控股成员企业天津华海清科机电科技有限公司接受清华大学的技术转让，拥有了化学机械抛光的核心技术，在国内率先具备研发和生产12英寸前段和后段抛光整机设备的能力。近日，华海清科首台12英寸化学机械抛光机交付中芯国际，标志着国内12英寸化学机械抛光机已进入大型生产线。
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